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氧化銅(CuO)靶材
顏色:黑色
純度:3N,4N
規格:D25.4x6.35mm,D54x1.5mm,D101.6x3.175mm
氧化銅靶材(CuO target)是一種在半導體制造過程中使用的濺射靶材。濺射靶材是在物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)等半導體制造過程中,用于沉積形成薄膜或涂層的固態材料。這些薄膜或涂層在半導體器件中承擔電氣、光學或結構功能,是實現高性能半導體產品的基礎。

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