手機視屏減反射膜的鍍制工藝

　　手機視屏減反射膜的鍍制工藝
　　
　　手機的彩色液晶顯示屏上采用減反射保護膜，可降低人眼受到外界炫光發生反應的影響，提升觀看舒適度，并保護眼睛。常用手機的基材是PC或亞克力基材。這兩種基材作為彩色液晶顯示屏的保護屏，都存在反射率高的缺點。因為未經鍍膜的保護屏界面至少有4.2%的反射率，在強光（如太陽光）的照射下，其反射光的強度會嚴重降低顯示屏圖像的對比度。所以，如對保護屏表面鍍反射率小于0.5%的減反射膜，將會提高顯示屏的清晰度。
　　
　　在保護屏表面用磁控濺射方法分別鍍上高折射率的Ti02膜和低折射率的Si02膜，使保護屏具有低反射增透的效果。由于PC或亞克力基材是農業生產體系材料，所以沉積溫度應在30-35℃范圍之內。
　　
　　鍍膜工藝
　　
　　(1)基片-PMMA，PC。
　　
　　(2)膜系一二層減反射膜十防水膜。
　　
　　(3)鍍膜。采用連續式磁控濺射鍍膜機進行反應沉積。
　　
　　①電源：Si靶用中頻電源，Ti靶用直流十脈沖電源。
　　
　　②真空度：通入Ar、02，真空度為5X10-1Pa。
　　
　　③溫度：25～35℃。
　　
　　④較后沉積防水膜IAF3。