在線CVD技術在低輻射玻璃上的優勢

    低輻射玻璃根據生產工藝不同分為在線CVD技術與離線真空磁控濺射技術。
    離線真空磁控濺射工藝，是在玻璃表面鍍上具有低輻射作用的金屬銀功能膜，兩側必須加上多層介質膜作為保護和過渡膜層，膜層與玻璃通過物理鍵結合。
    這種“軟鍍膜”產品有下列局限：膜層容易受到劃傷或損壞；由于銀較易氧化，膜層在接觸到空氣后會退化，因而其壽命有限；在短時間內必須將鍍膜后的玻璃合成中空；如進行鋼化等深加工時一般在鍍膜之前完成。
    在線LOW-E采用具有較有優勢水平的在線CVD技術，在浮法玻璃生產過程中，當玻璃處于近700℃高溫時，在表面上鍍上半導體金屬氧化物，膜層同玻璃通過化學鍵結合，成為玻璃表面的一部分。因而具有很好的化學穩定性和熱穩定性。
    這種“硬鍍膜”產品具有如下特性：可單片使用；膜層牢固，耐用，實現較久節能；在合成中空時無需除去邊部膜層，可像普通浮法玻璃一樣進行熱彎、鋼化等深加工和儲存。