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    磁控濺射鍍膜設備與技術
                    
    來源：  作者：佚名 2004/3/31 19:55:00                    
    13831次瀏覽
                        
    磁控濺射鍍膜（MSP）是一種先進的表面裝飾鍍膜技術，膜材做成陰較圓柱磁控旋轉靶置于鍍膜室中點，通入工作氣體，
    在電壓（直流或脈沖）作用下產生真空輝光放電，360℃方向輻射鍍膜。靶材利用率高，工作溫度低，可用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）工件鍍制鋁、銅、鉻、鎳、鈦、金、銀以及不銹鋼等薄膜，通入反應氣體可鍍多種化合物膜，鍍膜層具有均勻、致密、附著力強、繞射性好等特點，廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術、玩具、車燈反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜。

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