浮法玻璃新技術(shù)國家重點實驗室

磁控濺射20吋中試線代加工/

磁控濺射中試線基本參數(shù)基片較大尺寸：356mm × 406mm濺射室極限真空：排氣性能：基片加熱：較高溫度400℃，均勻性±5%以內(nèi)濺射陰極：平面陰極3條 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)?旋轉(zhuǎn)陰極2對 500mm(H)×133mm(ID)濺射電源：直流電源（10kW），中頻電源（10kW）磁控濺射中試線用途金屬膜代加工，工藝授權(quán)（各種顏色可調(diào)金屬/非金屬膜；衣服，燈，空調(diào)等顏色可

2017-09-07 面議/平方米