大平面陰較濺射靶

大平面濺射陰極

特點：

1、采用獨特的磁路設計，突破傳統模式，更符合磁控濺射的理念。

2、采用獨特的結構設計，可以內置、外置，更符合使用要求。

3、磁鐵不被冷卻水包圍，減少腐蝕，且保證磁力線的有效曲線分布。

4、獨特的布氣方式，更加保膜層濺射的均勻性，其等離子狀態更加平衡。

5、更高的濺射率，離子密度更強。

6、更高的利用率，高達40%以上。

7、尺寸范圍：可在300-3000mm區間，保持一致的均勻性

8、使用范圍：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等

應用領域：

半導體、MEMS、TFT、ITO、low-e玻璃、硬質涂層、裝飾性膜層

主營行業：玻璃生產設備 // 鍍膜玻璃生產線 公司注冊地址： 法人代表：
員工人數： 廠房面積： 年營業額：
年進口額： 年出口額： 主要市場：
客戶群：
公司名稱:深圳市昊光機電應用科技有限公司
注冊資本:人民幣1000萬元/年-人民幣2000萬元/年 公司網址：http://jnwming.glass.com.cn

主營產品：玻璃鍍膜線,進口真空配件 公司成立年份：2001
公司網址：http://jnwming.glass.com.cn

聯系人：王明
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