一、企業概況：
無錫中晶材料科技有限公司是有經驗從事 “平板狀氧化鋁研磨拋光微粉”(TWA 系列產 品 ) 的生產、研發、銷售于一體的科技型企業，已通過ISO：9001-2000全部質量標準，具有全部先進水平的生產線和高等的員工隊伍, 擁有 Coulter Multisizer II型粒度分析儀和其它準確的質控儀器。該產品填補了國內在高等磨料上的空白 , 改變了我國長期依賴進口的局面 , 現已穩定地供應給美國、日本、韓國、馬來西亞、寶島地區以及國內眾多企業。
二、產品介紹： 該研磨拋光微粉是以工業氧化鋁為主要原料 , 采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小 , 經特殊處理和嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石 , 是非常的準確研磨拋光、研磨微粉。
1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能 : 平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨特的平板狀結構 , 硬度高達莫氏九級 , 磨削力強 , 不易產生劃痕 , 可得到效率高率、高精度的被加工表面 , 有特殊設計的粒度分布 , 質量和日本 FUJIMI公司相當。
2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點
1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的非常大區別是：片狀，硬度高，粒度均勻。
2）特點為：
A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力加大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數量的產品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節約40%至50%；
D、與國外同類產品相比，質量達到或超過國外同類產品，品質已達到全部標準，但產品價格只有國外同類產品的60%--70%；
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優良性能，故加工的產品合格品率高，質量穩定，生產成本只有原來的50%-60%。（具體數據可見用戶報告）
3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 :
1）電子行業 : 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。
2）玻璃行業 : 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。
3）涂附行業 : 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4）金屬和陶瓷加工業。
氧化鋁(AL2O3)性能指標：
物理指標：
化學名稱外觀密度莫氏硬度顯微硬度
α- AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.02200-2300kg/mm
化學指標：
化學成份指標(%)測度結果(%)
AL2O3＞99.099.36
SiO2＜0.20.027
Na2O＜0.60.35
Fe2O3＜0.10.03
產品粒度：
粒度號平均粒度(?m)
TWA5044.5?2.5
TWA4536.0?2.3
TWA4031?2.0
TWA3525.5?1.7
TWA3021.5?1.5
TWA2517.4?1.3
TWA2014.2?1.0
TWA1510.5?0.8
TWA128.2?0.6
TWA96.4?0.6
TWA54.7?0.5
TWA33.1?0.4
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